フォトマスク

フォトマスクとは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品等を製造するときに使用されるパターンを形成した透明な板です。フォトリソグラフィと呼ばれる写真技術により、電子部品の回路パターン等を基板に転写する際の原版となります。弊社ではフォトマスクとして高精度エマルジョンマスクや超高精度クロムマスクをご用意しております。

製品概要

高精度エマルジョンマスク

  • 基材がガラスのため、寸法安定性が高い。
  • 基材が湿度に対して安定している。
  • フリンジが少なく解像性に優れている。
  • 高精細画像に対応している。
  • 遮光膜の膜厚が薄いため、転写性能に 優れている。

超高精度クロムマスク

  • 基材がガラスなので寸法安定性が高い。
  • 基材が湿度に対して安定している。
  • 遮光膜の機械的強度が優れている。(鉛筆強度5H)
  • 遮光膜の膜厚が薄いため、転写性能に優れている。
  • フリンジが無く微細パターンが形成可能で、超高精細画像に対応している。
  • 連続露光を行っても、マスクに熱が溜まりにくくなっている。
  • 退耐性がなく安定している。
主に使用されている製品 主に利用されている業界
半導体素子
フラットパネルディスプレイ
プリント基板
ITO
液晶パネル
エッチング加工原版
電子部品業界
エッチング業界

加工限界と精度

エマルジョンマスク仕様

エマルジョン ハードコート
製品規格 材料 ソーダライム
品種 KONICA HY2/FUJI UM-G
平面性 200mR~300mR
透明度 82%(365μ) 78%(365μ)
膜厚 7.0μ 7.0+2.0μ
膜質 銀塩ゼラチン乳剤 +ハードコート
光学濃度 3.0OD≦
サイズ ~910×1460 ~700×800
最小線幅 10μ
線幅精度 ±2μ、±3μ
トータルピッチ精度 ±5μ以上、±10μ以下

クロムマスク仕様

製品規格 材料 ソーダライム 合成石英
品種 ULCOAT/CLEANSURF ACEAZシリーズ
平面性 5μ、10μ/サイズ
透明度 83%(365μ) 90%(200μ)
膜厚 1000~1250Å
膜質 低反射クロムニ層膜(Cr+CrO)
反射率 10%(436hm)
光学濃度 3.0OD±0.3(450hm)
サイズ ~800×1080
最小線幅
線幅精度 ±0.5μ、±1μ、±2μ
位置精度 10μ≧

製品に伴う必須情報

発注資料

  • 図面よりパターン作製
  • 各種データより編集

確認事項

  • マスク材質
  • ポジネガ、膜面、スケーリング有無、要求精度、基材サイズ、品名刻印の指定など
  • プロット承認の有無
  • 検査成績表の指定

お打ち合わせにて、最適なご提案をし、御見積させて頂きます。
小回りの利いた素早い対応にて、お客様にご満足頂いております。

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